PHASE SHIFT MASK（PSM掩模），，，，，，，，通过MOSI层爆发180°的相位差以降低光的衍射作用，，，，，，，，从而提高掩模图形区分率
相移掩模手艺优点：镌汰邻近效应，，，，，，，，使用光的相关性，，，，，，，，抵消部分衍射扩展效应，，，，，，，，改变空间光强漫衍，，，，，，，，使更多的能量从低频分派到高频上，，，，，，，，填补投影物镜通低频阻高频的弱点，，，，，，，，提高空间图像的反差，，，，，，，，改变像质，，，，，，，，使区分率和焦深增大
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